AMOLED5.5代湿法刻蚀机


项目

说明

设备名称

AMOLED湿法刻蚀机

基板尺寸

适用于G6以下所有尺寸基板

适用工艺

ITO刻蚀/草酸刻蚀/盐酸刻蚀/王水刻蚀

控制方式

三菱Q系列PLC全自动控制+CIM全厂通讯与控制

传输方式

Roller To Roller

设备类型

Double Conveyer Type

工艺流程

LOAD→PLASMA→BUF→ETCH1→ETCH2→ETCH3→RINSE-1→RINSE-2→CJ→HPMJ→Rinse→AK→UNLOAD

主要材质

CPVC

Tact   Time

视工艺而定

 

 

 

工艺效果

1)刻蚀速率均一性:

基板内 : ≤ 5%,基板间 : ≤ 5%,批次间 : ≤ 8%;
  2)刻蚀CD均一性≤ 8.0%;
  3)刻蚀CD bias ≤ -1μm;

 

 

 

 

 

 

设备特点

 

1)具备FIX   TYPE,Scaning Type模式碎片感应;
  2)CIM通讯;
  3)具备Shutter防结晶系统;
  4)水平衡系统,节约用水;
  5)高精密系统,流量分布均匀性全局控制在2%以内;

6)高精密液刀、高精密风刀
  7)智能喷嘴摇摆功能,角度与速度多级可调;
  8)具备槽体清洗功能,清洗液独立管路排放,减少厂务负担;
  9)加热器多重保护,泵浦多重保护功能;
  10)液刀、风刀智能开启与关闭功能,节约能耗。


TFT4.5代湿法刻蚀机

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