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全自动槽式刻蚀机

全自动槽式刻蚀机

适用于:8~12英寸晶圆刻蚀 设备特点: 1. 优异的刻蚀性能,刻蚀性能与Single Wafer机台完全持平, 而能耗却更低 2. 节能,药水单耗低于Single Wafer 3. 结构简单,使用方便,操作难度低于Single Waf

适用于:8~12英寸晶圆刻蚀 
设备特点:
1. 优异的刻蚀性能,刻蚀性能与Single Wafer机台完全持平,
    而能耗却更低
2. 节能,药水单耗低于Single Wafer
3. 结构简单,使用方便,操作难度低于Single Wafer
4. 成本低廉,相同产能其价格约为Single Wafer机台的1/5
5. 设备升级空间巨大,容易搭载更多的功能
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