首页 > 产品中心 > 平板显示 >
G4.5代等离子清洗机

G4.5代等离子清洗机

项目 说明 设备名称 G4.5代等离子清洗机 适用基板尺寸 适用于 1500mm*1800mm*0.4mm 以下所有尺寸基板 适用工艺 滚刷清洗 控制方式 三菱 Q 系列 PLC 全自动控制 +CIM 全厂通讯与控制 传输方式

晶洲装备G4.5等离子清洗设备2晶洲装备G4.5等离子清洗设备3

项目

说明

设备名称

G4.5代等离子清洗机

适用基板尺寸

适用于1500mm*1800mm*0.4mm以下所有尺寸基板

适用工艺

滚刷清洗

控制方式

三菱Q系列PLC全自动控制+CIM全厂通讯与控制

传输方式

Roller To Roller

设备类型

Double Conveyer   Type

工艺流程

LOAD→EUV→Brush-1→Brush-2→Rinse→B/J→Rinse→A/K→Unload

主要材质

CPVC

Tact Time 视工艺而定

设备特点

1)具备FIX TYPEScaning Type模式碎片感应; 
     2
)双层滚轮传输系统,左进左出或右进右出;
     3CIM通讯;
     4)高精度滚刷,滚刷高度自动调整;
     5)水平衡系统,节约用水;
     6)使用高精密喷嘴,流量分布均匀性全局控制在5%以内;
     7)液刀、风刀智能开启与关闭功能,节约能耗。

 


点击询价
相关推荐
G6 AMOLED湿法刻蚀设备/G6 AMOLED Wet Etcher

G6 AMOLED湿法刻蚀设备/G6 AMOLED Wet E

国产首台(套)设备

G6 AMOLED光阻玻璃设备/G6 AMOLED Stripper

G6 AMOLED光阻玻璃设备/G6 AMOLED Strip

G4.5代等离子清洗机

G4.5代等离子清洗机

AMOLED5.5代湿法刻蚀机

AMOLED5.5代湿法刻蚀机

TFT4.5代湿法刻蚀机

TFT4.5代湿法刻蚀机

盖板玻璃清洗机/Lens Cleaner

盖板玻璃清洗机/Lens Cleaner