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G6 AMOLED光阻玻璃设备/G6 AMOLED Stripper

G6 AMOLED光阻玻璃设备/G6 AMOLED Stripper

晶洲装备G6 AMOLED光阻剥离设备,适用于G2.5-G10基板尺寸

G6 AMOLED光阻剥离设备-晶洲装备
适用工艺:Strip
适用基板尺寸:G2.5~G10.5,超出该尺寸范围请与Kzone咨询
适用基板厚度:≥0.2mm
刻蚀类型:Shower
设备类型:Double CV传输设备,U型传输设备,Line传输设备,Custom Made
工艺能力:1. No PR, Chemical, Water Residue                   2. No Corrosion
                  3. No Mura, No Roller Mark, No Contamination and No Scratch
可配置模块:1. Quick Rinse/Normal Rinse/High Performance Rinse单元 
                     2. CV & Turn单元                      3. EUV/AP Plasma单元
                     4. Elevator单元                         5. Neutral单元
                     6. Strip单元                               7. AK单元
                     8. Custom Made                       9. Loading & Unloading单元 
                     10. TMAH Rinse单元              11. Brush Rinse单元 
设备特点:
1. 多模式破片检测功能:全面扫描,边缘扫描,边角扫描       
2. 具备高洁净设备内部环境,防止Particle污染       
3. 具备高速搬运系统,减少产品在非工艺区的滞留时间       
4. 倾斜搬送与水平搬送安全无缝对接,杜绝碎片       
5. 完善的控制系统:       
    1)设备由PC与PLC共同管理,减少单一控制系统工作负荷,提升稳定性      
    2)可定制的、符合本地化操作习惯的人机交互系统      
    3)完善的过程数据管理系统      
    4)完善的工艺数据管理系统      
    5)完善的运营成本管理系统      
    6)远程通信、控制功能(需CIM支持)      
6. 卓越的工艺管控能力:       
    1)稳定的温控系统,提供±0.5℃的工艺温度管控能力      
    2)全自动压力与流量自调节功能,保证工艺参数稳定      
    3)高密度剥离喷淋系统,喷淋均匀性优于95%      
    4)高均匀精密液刀,喷淋均匀性达到98%以上 
    5)超高速流体置换能力,杜绝金属腐蚀、光阻再生与残留等不良
    6)高效产品静电控制系统,全过程产品静电控制在100V以内
7. 完善辅助功能       
    1)水平衡设计,节约用水同时防止前后交叉污染      
    2)高均匀气刀与液刀组合,防止过程产品干燥      
    3)核心部件如泵浦、加热器等多重安全保护      
    4)预留CCSS与LCSS软硬件端口,可方便应对多种工况
    5)预留RMS软硬件端口,根据用户需求进行集成      
    6)集成超纯水与内部环境静电控制系统       7)TMAH集成应对
 
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