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G6半湿法刻蚀设备/Half Wet Etcher

G6半湿法刻蚀设备/Half Wet Etcher

晶洲装备G6半湿法刻蚀设备

G6半湿法刻蚀设备
设备特点:
1. 具备G6 AMOLED湿法刻蚀设备所有特征      
2. 具备G6 AMOLED湿法刻蚀设备所有工艺能力      
3. 允许双半片同进同出或单半片进出模式      
4. 半片单独刻蚀系统,双系统所有参数独立,防止交叉影响      
5. 半片单独数据管理功能,可自动合并或分离前后半片所有数据,便于管理      
6. 半片单独工艺管理功能,确保工艺条件一致      
7. 半片自动控距功能,防止叠片      
8. 半片模式自动合并,便于与下游设备对接      
9. 配置了纯水除静电系统,杜绝电化学腐蚀现象      
10. 配置了环境除静电系统,保证了产品表面静电影响      
11. 具备快速清洗能力,防止刻蚀不良      
12. 配置高性能清洗模块

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