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G6 掩膜版清洗设备/Mask Cleaner

G6 掩膜版清洗设备/Mask Cleaner

清洗质量:无mura、水痕、锈斑、脏污,无损伤 UV照射:无发光点 平坦度:150微米 Total Pitch变化:2微米 数量:G6标准10颗(5微米) 搬送重复精度:0.5mm 温度稳定性:1(60以内) 设备内部洁净度

清洗质量:无mura、水痕、锈斑、脏污,无损伤
UV照射:无发光点
平坦度:≤150微米
Total Pitch变化:≤±2微米
数量:G6标准≤10颗(≥5微米)
搬送重复精度:≤±0.5mm
温度稳定性:±1°(60°以内)
设备内部洁净度:Class 100(Particle计数器)
超声波:1、4波段复频超声波,频率可自由切换
              2、球面超声波技术,无死角
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