首页 > 产品中心 > 太阳能光伏 >
背抛光刻蚀清洗机

背抛光刻蚀清洗机

2011年,晶洲率先在国内第一家推出第一代的背抛光刻蚀机,其拥有完全的自主知识产权,拥有多项发明专利与实用新型专利。 技术优势: 1.可观的电池效率提升,根据不同的工艺基础

2011年,晶洲率先在国内第一家推出第一代的背抛光刻蚀机,其拥有完全的自主知识产权,拥有多项发明专利与实用新型专利。

技术优势:

1.可观的电池效率提升,根据不同的工艺基础,可提升0.1%-0.2%。

2.集扩散后抛光和湿法刻蚀与一体(专利技术),无需额外设备投入,无需增加工序。

3.无需使用NaOH, HNO3 H2SO4,更环保、更低的化学品耗用成本。

4.专用抛光液,抛光效果好,易控制,产量大,成本低,废水易处理,节约废水处理成本。

5.背抛光技术与SE,背面钝化(AL2O3),背接触技术,两次印刷,MWT等主流技术可叠加,兼容性好,提升背面技术革新空间。

6.技术便于实现系统集成或模块化,方便客户选择整机或改造。
苏州晶洲装备背抛光刻蚀清洗设备苏州晶洲装备科技有限公司背抛光刻蚀清洗设备


背抛光刻蚀清洗机

 

项目  说明 
功能  去PSG+背抛光+刻蚀 
适用对象  多晶/单晶硅片 
硅片尺寸  156mm*156mm 
125mm*125mm 
产能  125mm*125mm      
标准产能 3600cells/h 
156mm*156mm     
标准产能 3000cells/h 
传输轨道  5
碎片率  ≦0.05% 
速度范围  1.0~2.5m/min 
操作速度  1.8m/min 
主要材质  PVDF, NaturePP, PEEK, PVC 
滚轮材质  PP 
电力供应  65KW,3相交流电380V,50Hz 
纯水  2.5±0.5kgf/cm2 
压缩空气/氮气  5±0.5kgf/cm2 
 

点击询价
相关推荐
电注入抗衰减设备

电注入抗衰减设备

黑硅制绒清洗设备/Black Silicon Texture Line

黑硅制绒清洗设备/Black Silicon Text

单晶制绒机

单晶制绒机

多晶制绒清洗机

多晶制绒清洗机

背抛光刻蚀清洗机

背抛光刻蚀清洗机