2013年6月我司“背抛光刻蚀清洗机”入围2013年第一批高新技术产品名单认定名单。背抛光刻蚀清洗机是我司自主研发的专利产品,它具有以下技术优势:

1.可观的电池效率提升,根据不同的工艺基础,可提升0.2%-0.3%。

2.集扩散后抛光和湿法刻蚀与一体(专利技术),无需额外设备投入,无需增加工序。

3.无需使用NaOH, HNO3 H2SO4,更环保、更低的化学品耗用成本。

4.实现硅片浸入溶液传输并抛光(专利技术),无需“水上漂”或“滚轮带液”,无刻蚀线,工艺稳定,容易控制。

5.解决了反应气泡不易散发的难题,抛光效果更好,碎片率更低。

6.专用抛光液,背面抛光效果更好,容易控制,产量大,成本低,废水低污染,易处理,节约废水处理成本。

7.背抛光技术与SE,背面钝化(AL2O3),背接触技术,两次印刷,MWT等主流技术可叠加,兼容性好,提升背面技术革新空间。

8.技术便于实现系统集成或模块化,方便客户选择整机或改造。

9.国内第一个完全拥有自主知识产权、新型提效解决方案。

相信这也是其入围高品的主要原因!

 


2015年03月07日

晶洲合影
上海交大教授一行来我司参观、验收设备

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晶洲入围“高新技术产品”名单

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