7月3-5日,由中国光学光电子行业协会液晶分会主办的DIC 2024中国(上海)国际显示技术及应用创新展在上海新国际博览中心隆重开幕, 晶洲装备作为国内领先的高端湿制程装备及工艺技术综合解决方案提供商应邀参展,展出了Track线技术方案以及气浮涂布机为代表的高端湿法装备,并获得圆满成功。
晶洲装备自2011年成立以来,一直致力于为泛半导体行业客户提供从清洗、显涂布、显影到刻蚀、剥离等一系列高端湿法装备及工艺技术综合解决方案,坚持构建“最具创新牵引能力、最强供应安全保障能力”的国产装备供应平台,用先天的本地化优势,在近距离进行以客户为导向的创新与密切合作,为客户带来更好的产品综合竞争力。十余年来,完成了G2.5~G10.5全系列湿法装备的应用布局,可应对客户class10级车间生产要求,受到客户的广泛认可,先后获得了新型显示产业链创新突破奖、新型显示产业链卓越贡献奖等诸多行业先进荣誉奖项。未来,晶洲装备将继续深耕科研创新,加快新技术、新产品的研发力度,推动新型显示装备进一步做优做强做大。
01 | 国产化Track的研发与进展主题演讲
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