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国内首个TGV中试开放平台登陆深圳湾芯展 发布时间:2026-10-16
? 2026湾芯展 · 展会速递

贯通TGV工艺装备国内首个TGV中试开放平台登陆深圳湾芯展

贯通TGV制孔、金属化、图形化到全系列湿法工艺验证与装备定制

12月14-16日,2026湾区半导体产业生态博览会(湾芯展)在深圳会展中心盛大举行。晶洲装备携国内首个TGV中试开放平台重磅亮相,全面展示从TGV制孔、金属化、图形化到全系列湿法工艺验证及设备定制的端到端能力,标志着晶洲在玻璃基板级先进封装赛道迈出关键一步。


01

TGV中试开放平台:从装备到工艺全链条

面对AI算力驱动下的产业新浪潮,晶洲装备积极布局玻璃基板级先进封装赛道,致力于突破TGV核心技术瓶颈。通过建立国内首个TGV中试开放平台(TGV Pilot Plant),晶洲成功打通了从装备到工艺再到应用的全链条自主体系,为上下游客户提供了从工艺开发、小批量试制到量产导入的一站式验证服务。

本次展会,晶洲装备重点展示了TGV中试平台在玻璃基板微孔制备及金属化领域的核心成果:

制孔能力

通孔直径15–200μm(均匀性±0.5μm@50μm)

真圆度U% ≤ 5%

均匀性U% ≤ 5%

玻璃厚度兼容0.1mm – 1.1mm

金属化

工艺方案双面电化学沉积,兼容可溶/不可溶阳极,直流+脉冲电镀

薄片加工0.3 – 1.5mm

电镀均匀性< 7%

深宽比≤ 10:1 @ 直径50μm

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02

高端消费电子玻璃刻蚀设备

在过去十年里,高端玻璃的应用边界正被快速拓宽——"更轻薄、更可靠、结构更复杂"的玻璃形态,正在给湿法蚀刻工艺带来同一个命题。

面向折叠屏、柔性显示等高端消费电子市场,晶洲装备推出高端玻璃刻蚀设备,涵盖玻璃边缘刻蚀(Edge Etching)、整面减薄刻蚀(Bulk Etching)等应用场景,对超薄玻璃进行精密化学刻蚀加工。

玻璃边缘圆弧化——消除应力集中,提升产品可靠性

整面减薄刻蚀——满足超薄化趋势的工艺需求

TGV玻璃微通孔刻蚀——打通先进封装关键制程

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03

展会现场:客户深度洽谈

展会现场,晶洲装备的TGV技术方案吸引多家头部客户驻足交流并展开深度洽谈。

200+
已授权核心专利
3
大基地协同苏州·湖州·佛山
50,000+㎡
现代化厂房量产交付保障

作为国家级高新技术企业,晶洲以200余项已授权专利构建核心技术壁垒,苏州、湖州、佛山三大基地协同运营,超50,000㎡现代化厂房为高端装备量产交付提供坚实保障。

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04

展望未来

未来,晶洲装备将继续深化高端装备国产化进程,以更先进的技术、更完善的工艺验证体系和交付能力,助力TGV技术从实验室走向规模化量产,为国内半导体封测产业的创新发展注入强劲动力!