2025年7月10日，长春—— 在“2025•新型显示行业供应链技术和市场对接交流会”期间举办的新型显示产业链年度颁奖盛典上，晶洲装备与新型显示头部企业联合开发的氢氟酸清洗设备荣膺 “协同开发奖”。

氢氟酸清洗作为显示制程中的关键环节，其清洗效果直接影响到器件结构的最终性能、效率与稳定性，关系到最终产品的良品率。它不仅要去除有源层表面的杂质而且要使表面钝化，从而减少界面杂质的吸附能力，对表面的洁净度要求非常严格，理论上不允许存在任何颗粒、金属离子、有机粘附、水汽以及氧化层，对表面要求具备原子级的平坦度，保障后制程的工艺可靠性。为此，晶洲联合新型显示头部企业历时三年突破九大技术壁垒，紧密配合，成功研制出氢氟酸清洗机并实现量产，降低了供应链波动风险，为我国在AMOLED领域逐步形成自主技术体系奠定了基础。

未来，晶洲将持续增加在产品研发及创新上的投入，深化与面板企业协同开发模式。申报书明确战略目标：“联合产业链伙伴，打造自主可控的湿法制程装备高地！” 这一目标高度契合了当前显示产业通过“全产业链协同创新”形成新质生产力、构筑竞争新优势的发展路径。